核心提示:
的NanoCalc系統利用了光譜反射測量技術,為半導體、醫療和工業環境領域的客戶光學薄膜厚度的精確測量。新款預配置NanoCalc系統面向客戶及新型應用,適合深紫外到近紅外波段的檢測。
NanoCalc系統適用于多種波長、多種采樣方式以及光學厚度(1.0nm-250μm)要求。用戶可以在4種標準型號中(涵蓋~200-1700nm)做出選擇,并且將它們與軟件、反射探頭、光纖和各種附件整合到一起。對于可見光譜(400-850nm)或者紫外可見光譜(250-1050nm)的應用,用戶可以通過選擇預配置的系統,使操作更加便利。這個預配置的系統包括NanoCalc,反射探頭、樣品臺、標準臺階膜厚Si-SiO2晶片以及可以分析10層薄膜的軟件。
為了滿足要求更高的應用環境,NanoCalc系統可以與大量的擴展軟件、光纖以及諸如掃描平臺、顯微鏡和微光斑聚焦裝置等測量附件一同使用。
在減反射硬質涂層、太陽能電池板上的非晶硅、OLED顯示面板、光刻膠等膜厚測量領域,NanoCalc系統將發揮尤為重要的作用。
客戶定制的NanoCalc系統還可以在現場、多點或者真空測量中實現附加的用戶控制。用戶可以自由選擇合適的光纖組件或者反射探頭。此外,用戶還可以通過其他軟件或者是利用軟件附加功能(包括遠程控制、在線控制、掃描以及多層測量)控制NanoCalc的功能。