牛津儀器作為世界領(lǐng)先的等離子刻蝕和沉積系統(tǒng)供應(yīng)商，不斷致力于改善和開(kāi)發(fā)該系統(tǒng)，以便為客戶提供提供最好的設(shè)備。

　　新系統(tǒng)的作用：

　　• 伴隨高品質(zhì)的二氧化硅和氮化硅沉積速率，PECVD硬件進(jìn)一步演變，相應(yīng)的減少清機(jī)時(shí)間成本。

　　• 新一代Cobra ICP系統(tǒng)改善了刻蝕率和線寬操控功能。

　　• 具有業(yè)界公認(rèn)的機(jī)械手功能，鞏固了牛津儀器在“即插即用”的硬件和優(yōu)化程序方面的領(lǐng)先地位。

　　• 增強(qiáng)了控制系統(tǒng)的基礎(chǔ)設(shè)施，具有更好的分析、可靠性和可維護(hù)性。

　　PlasmaPro 100是一個(gè)高配置的系統(tǒng)，既可以作為獨(dú)立腔體模塊，也可以多腔配置。

　　“正常運(yùn)行時(shí)間超過(guò)90%，這個(gè)數(shù)據(jù)證明了我們?cè)O(shè)備的技術(shù)和自動(dòng)化在業(yè)內(nèi)處于領(lǐng)先地位，”高級(jí)產(chǎn)品經(jīng)理Ian McKinlay談到，“此新產(chǎn)品做到真正的改進(jìn)，具有良好的均勻性，并在應(yīng)用范圍內(nèi)提供高產(chǎn)能程序。我們獨(dú)家擁有6000多個(gè)工藝參數(shù)。憑借此項(xiàng)優(yōu)勢(shì)，25年來(lái)牛津儀器在業(yè)界一直處于領(lǐng)先地位，同時(shí)也確保了我們能將優(yōu)異的產(chǎn)品提供給客戶。”

PlasmaPro 100系統(tǒng)